沈阳芯源请求涂胶显影专利下降光刻机承载台吸附晶圆时的摩擦力

更新时间：2025-03-15 作者：米乐客户端

  金融界2025年1月15日音讯，国家知识产权局信息数据显现，沈阳芯源微电子设备股份有限公司请求一项名为“涂胶显影办法和涂胶显影体系”的专利，公开号 CN 119291998 A，请求日期为 2024年12月。

  专利摘要显现，本发明触及涂胶显影范畴，供给一种涂胶显影办法和涂胶显影体系，该办法应用于涂胶显影体系，包含：将晶圆传送到覆膜单元中，在所述晶圆的反面涂覆润滑膜层，以使所述晶圆的反面润滑度增大；将反面涂覆润滑膜层的所述晶圆传送到涂胶单元中，操控所述涂胶单元在所述晶圆的正面涂覆光刻胶层，以使晶圆的正面附着待曝光处理的光刻胶层；将正面涂覆光刻胶层的所述晶圆传送到背洗单元中，操控所述背洗单元中的毛刷运动，以清洗所述润滑膜层的下外表；所述下外表为违背所述晶圆的外表；将润滑膜层的下外表被清洗后的晶圆送入曝光体系，待所述曝光体系对晶圆曝光处理。该办法用于使晶圆反面的润滑膜层可以大大下降光刻机承载台吸附晶圆时的摩擦力。

  天眼查资料显现，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，坐落沈阳市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱13782.7011万人民币，实缴本钱6300万人民币。经过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外出资了6家企业，参加招投标项目290次，知识产权方面有商标信息27条，专利信息570条，此外企业还具有行政许可56个。

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